Forschung

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Motivation

Bereits heute wird etwa 40% der weltweit verbrauchten Energie in Form von elektrischem Strom bereitgestellt. Es wird erwartet, dass dieser Anteil bis 2040 auf etwa 60% steigt. In absoluten Zahlen besagen Vorhersagen, dass der Bedarf an elektrischer Energie bis 2030 auf fast 9 PWh ansteigt1.

Diese gewaltigen Energiemengen müssen nicht nur ressourcen- und umweltschonend erzeugt, sondern auch effizient verteilt und genutzt werden. Dafür werden leistungselektronische Bauelemente, Schaltungen und Systeme benötigt, um je nach Anwendung das passende Spannungs- und Frequenzprofil des elektrischen Stroms zu erzeugen. Die Verlustleistung und die Produktionskosten dieser Komponenten gilt es konsequent zu minimieren.

Einen Ansatz zum Minimieren dieser Verluste bieten Bauelemente aus dem Material Galliumnitrid. Jedoch ist es notwendig für die weitere Optimierung der Effizienz von Leistungstransistoren neue Materialien zu entwickeln. Daher befasst sich die Gips-Schüle-Professur für Leistungselektronik in einem seiner Forschungsschwerpunkte mit der Materialentwicklung für Leistungselektronische Bauelemente.

Galliumnitrid

Die Betrachtung der grundlegenden physikalischen Eigenschaften gibt Hinweise darauf, dass GaN-basierte Transistoren im Vergleich zu Silizium-Transistoren im Anwendungsbereich 100 V bis 1000 V eine Verbesserung des spezifischen Einschaltwiderstands um den Faktor 10 erreichen können.

Zusätzlich zur Verbesserung des spezifischen Einschaltwiderstands bieten GaN-basierte Leistungsbauelemente auch eine signifikante Steigerung der Schaltfrequenz. Weiterführende Simulationen geben Hinweise darauf, dass die nächste Generation von GaN/Si-basierten Transistoren eine Verbesserung von 33% in der Leistungseffizienz gegenüber Silizium-MOSFETs realisieren können, die nach dem neuesten Stand der Technik entwickelt werden.

Bereits jetzt ist Galliumnitrid das Material der Wahl für kompakte Spannungswandler mit hohem Ausgangsstrom wie zum Beispiel den Ladegeräten von Smartphones.

Der High-Electron-Mobility-Transistor

Die Galliumnitrid (GaN) -Technologie basiert auf einem Transistorprinzip namens High-Electron-Mobility-Transistor kurz HEMT. Bei diesen Transistoren werden Heterostrukturen aus Galliumnitrid und Aluminium-Galliumnitrid (AlGaN) aufeinander gewachsen, um Polarisationsgradienten zu erzeugen. Auf Grund dieser Polarisationsgradienten, die vor allem durch die unterschiedlichen Gitterparameter der piezoelektrischen Materialien hervorgerufen werden, wird ein elektrisches Feld induziert, das eine Verkippung der Leitungsbandkante über die Tiefe hervorruft.

Weiterhin haben die verwendeten Materialien unterschiedliche Bandlücken. Dadurch ergeben sich Sprünge in der Energie des Leitungsbandes an den Grenzflächen der Materialien. Dies nennt man Banddiskontinuität.

Diese beiden Effekte sorgen dafür, dass an der Grenzfläche von AlGaN zu GaN im Leitungsband ein dreieckiger Quantentopf entsteht, der unterhalb des Ferminiveaus liegt. Die Folge ist die Bildung eines zweidimensionalen Elektronengases (2DEG) an der Grenzfläche der beiden Materialien.

Die Ladungsträger bewegen sich hauptsächlich in einer Galliumnitrid-Pufferschicht. Galliumnitrid bietet durch seine Kristallstruktur die Möglichkeit, dass sich Elektronen im Leitungsband besonders schnell bewegen können, was erklärt, warum die Schaltfrequenz mithilfe dieses Materials deutlich gesteigert werden kann.

Entwicklung neuartiger Barrierematerialien

An der Gips-Schüle-Professur für Leistungselektronik entwickeln wir neuartige Halbleitermaterialien, die sich als Barrierematerial für HEMTS eignen. Aussichtsreichester Kandidat ist momentan Aluminium-Scandium-Nitrid (AlScN).

Mit diesem Material ist es möglich, auch ohne unterschiedliche Gitterkonstanten und somit ohne Verwendung des Piezoeffektes, Transistorstrukturen zu wachsen. Diese weisen aufgrund der entstehenden Polarisationsgradienten sogar mehr Elektronen im 2DEG aufweisen.

Dadurch kann der Widerstand des Transistorkanals weiter gesenkt und ohmsche Verluste können weiter minimiert werden. Zudem hat AlScN bei der verwendeten Komposition eine größere Bandlücke als die üblichen AlGaN-Barrieren, wodurch auch die Eignung für hohe Spannungen verbessert wird.

Simulationen haben gezeigt, dass es weitere vielversprechende Materialien gibt, die in der Leistungselektronik Anwendung finden könnten – darunter Aluminium-Yttrium-Nitrid (AlYN), oder Aluminium-Hafnium-Nitrid (AlHfN). Ein Forschungsberich des Lehrstuhls ist es daher die Systematik des Einbaus von verschiedenen Nebengruppenelementen in das Aluminiumnitrid-Gitter zu verstehen, um neue mögliche ternäre Materialien zu entdecken, zu simulieren und zu entwickeln, die zukünftig in leistungselektronischen Bauteiluen Verwendung finden könnten.

  1. Nicola Jones, The Information Factories, Nature Vol. 561 163-166; 2018; doi: https://doi.org/10.1038/d41586-018-06610-y ↩︎
  2. Josh You (2025), „How much energy does ChatGPT use?“. Published online at epoch.ai. Retrieved from: ‚https://epoch.ai/gradient-updates/how-much-energy-does-chatgpt-use‚ [online resource] ↩︎
  3. Simon Fichtner, Niklas Wolff, Fabian Lofink, Lorenz Kienle, Bernhard Wagner; AlScN: A III-V semiconductor based ferroelectric. J. Appl. Phys. 21 March 2019; 125 (11): 114103. https://doi.org/10.1063/1.5084945 ↩︎